金属薄膜的制备与工艺研究
    制备薄膜材料的物理方法很多，但大致可分为二大类，化学方法（包括电化学方法）和物理方法。化学方法包括：化学气相沉积法（CVD）、液相生成法、氧化法、扩散法、电镀法等。物理方法包括：真空热蒸发法、直流溅射、磁控溅射法、射频溅射、脉冲激光沉积、分子束外延生长法等薄膜的制备方法。本实验采用直流溅射法、真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜。
【实验目的】
    1．学习溅射镀膜的方法，初步了解薄膜形成的机理；
    2．了解真空系统的结构和真空测量技术的基础知识，掌握机械泵、扩散泵的工作原理及操作规程；
    3．学习直流溅射制备金属薄膜的原理和方法；
    4．学习真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜的原理和方法；
    5．研究制备工艺对薄膜性能的影响。
【实验原理】
一、真空的获得和测量
“真空”是指低于一个大气压的气体状态。在真空技术中，以“真空度”来表示气体的稀薄程度，真空度越高，气体压强越低。通常气体的真空度直接用气体的压强来表示，常用单位为帕斯卡(Pa)或毫米汞柱(mmHg)——简称乇(Torr)，它们之间的关系为： 1 毫米汞柱(mmHg)=1乇(Torr)=133帕斯卡(Pa)习惯上将真空度分为低真空（100 Pa～10-2 Pa），高真空（10-3 Pa～10-6 Pa）和超高真空（<10-6Pa）。
真空系统的种类繁多，可以说几乎没有两类不同的工作使用完全相同的真空系统，而得到满意的结果，也就是说大多数都具有较鲜明的“个性”。但是，任何真空系统都存在“共性”， 即都有一个基本的构架，需要由以下几个部分组成。真空室（即待抽的空间或镀膜室或溅射室）、真空泵（视实验真空度的要求而定，确定使用那种真空泵或真空泵组）、各种阀门、真空规、连接管道和其它附属设备，这些部件综合在一起就组成了真空系统。一个典型的真空系统框架如图8.1.1-1所示。
系统低真空由图8.1.1-1中的前级泵完成，从大气开始工作，进行预抽，使系统达到低真空，对于只要求低真空的实验装置如“SBC-12 小型直流溅射仪”、“低真空干燥箱”等，只需要前级泵或真空泵组。而对有些实验需要的真空度比较高，则需要添加增压泵和主抽泵，在低真空的基础上将真空室或制样室的真空度进一步提高，使其达到实验设计的要求。如果实验需要制样室的条件是超高真空的话，就必须添加无油泵（如：粒子蒸发泵、低温吸附泵…）。真空泵有两个重要参量：极限真空（真空泵能抽得的最高真空度）和抽气速率。利用机械方法获得真空的设备称之为机械泵或机械真空泵，其中最主要的是转动泵、分子泵和罗茨泵。
转动泵的原理是利用机械方法使一个工作室的体积周期性地扩大与缩小来达到抽气目的。它是一种前级泵，一般在工作室容积最小时和抽气管地入口接通，于是气体就进入工作室，直到工作室容积达到最大并重新与抽气管隔断的时候才停止；以后工作室容积逐渐变小，气体就被压缩，直到压强大于1个大气压时排气阀打开驱除气体。
分子泵也是一种利用机械方法获得真空的泵，但是它与转动真空泵的原理有根本的不同。它只是一种次级泵，即不能从大气开始工作；它并不是从压缩与膨胀原理出发来进行抽气的。一个原始的Gaede 分子泵包含一对间距h 很小的定子和同轴转子。当前级泵抽气到预备真空，
满足气体分子的l ³ h时，开始使分子泵的转子旋转。由于气体分子的相互碰撞的机会比碰到转子的机会少，结果大量的气体分子就因外摩擦而被转子表面所驱动，在前级
端集结而被抽出。目前分子泵已经广泛用于各种镀膜设备、加速器、质谱仪、表面谱仪和电子显微镜等大型设备中。
罗茨泵又称机械增压泵，或称双转子泵，是一种兼有分子泵作用的容积压缩泵。它由2个8 字形的转子构成，转子在定子的空腔内旋转，转子的外缘形状和旋转的同步性使转子之间以及转子与定子之间都保持0.1~ 0.15mm真空干燥箱使用方法的间隙，因此可以由很高的转速（³ 3000转/分），而没有被卡住的危险。但是这样的缝隙仍然有交较大的气导，故在使用时将会有大量的气体返回真空室，因此它要求前级泵提供预备真空，在前级泵的配合下它就起着分子泵的作用。另一方面当转子旋转时也有压缩容积的过程，它提供另一种抽气作用。
扩散泵是一种气流泵。扩散泵主要由泵芯、喷射级、加热器、水冷套和相关附件组成。扩散泵的主要参数有：抽气速率、极限真空、前级耐压和反油率等。泵的抽气速率主要取决于最靠近高真空端的喷口，但为了增加压缩比以得到较高的前级耐压，需要几级喷口加以串联。第一喷口和第二喷口通常为伞形，第三喷口可以是伞形也可以是圆筒形，它的作用范围和喷
射泵相似，故称为喷射级。
扩散泵的优点是结构较简单，没有转动部分，不需要特殊的电源和控制台，成套设备价格较低，故扩散泵应用较广泛，在真空泵中仍占较重要位置。
    本实验的真空系统只用到机械泵和扩散泵，其实验操作要领和详细的工作原理参阅仪器说明书和相关书籍。
二、 直流溅射法
    所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶材），使固体表面的原子（或分子）从表面射出的现象。这些从固体表面射出的粒子大多呈原子状态，通常称为被溅射原子。常用的轰击靶材的荷能粒子为惰性气体离子（如氩离子）和其快速中性粒子，它们又被称为溅射粒子。溅射粒子轰击靶材，从而使靶材表面的原子离开靶材表面成为被溅射原子，被溅射原子沉积到衬底上就形成了薄膜。所以这种薄膜制备技术又称为溅射法。
    溅射法基于荷能粒子轰击靶材时的溅射效应，而整个溅射过程都是建立在辉光放电的基础之上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所用的辉光放电方式有所不同。直流溅射法利用的是直流电压产生的辉光放电；射频溅射法是利用射频电磁场产生的辉光
放电；磁控溅射法是利用平行于靶材表面的磁场控制下的辉光放电。
    就直流溅射法中所利用的直流电压产生的辉光放电来说，靶材阴极C）和衬（阳极A）之间电位的变化并不是均匀的，而会产生所谓的阴极电压降（ C U ），如
图8.1.1-2所示。
图8.1.1-3 溅射系统示意图
图8.1.1-2中的d是靶材（阴极C）和衬底（阳极A）之间的距离。由放电形成的惰性气体正离子被朝着阴极（靶材）方向加速，并且这些正离子和
由其产生的快速中性粒子以它们在阴
极电压降区域获得的几乎一样的速度到达阴极。阴极电压降的大小取决于气体的种类和阴极材料。在这些能量离子和中性粒子的轰击下，靶材原子被从其表面溅射出来，被溅射出来的靶材原子冷凝在阳极（衬底）上，从
而形成了薄膜。
    直流溅射法制备薄膜时，需要对镀膜室（参看图8.1.1-1和图8.1.1-5）抽真空。因为它可以在较低的真空度下进行直流溅射，只需用机械真空泵提供1～2Pa 的真空度即可。