duv光刻技术及常见工艺问题
duv光刻技术及常见工艺问题DUV光刻技术是一种常用于微电子制造中的光刻技术,其中DUV代表深紫外光(Deep Ultraviolet)。它使用波长为193纳米的光源进行曝光,相比传统的紫外光刻技术,DUV光刻技术具有更高的分辨率和更小的特征尺寸。下面是一些与DUV光刻技术和常见工艺相关的问题的解答:1. DUV光刻技术的工作原理是什么?DUV光刻技术利用波长为193纳米的深紫外光在光刻胶上进行曝...
2023-12-08 28 0
duv光刻技术及常见工艺问题DUV光刻技术是一种常用于微电子制造中的光刻技术,其中DUV代表深紫外光(Deep Ultraviolet)。它使用波长为193纳米的光源进行曝光,相比传统的紫外光刻技术,DUV光刻技术具有更高的分辨率和更小的特征尺寸。下面是一些与DUV光刻技术和常见工艺相关的问题的解答:1. DUV光刻技术的工作原理是什么?DUV光刻技术利用波长为193纳米的深紫外光在光刻胶上进行曝...