波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法_冯伯儒
第３１卷第２期光电工程Vol.31, No.2 ２００４年２月 Opto-Electronic Engineering &n...
2024-07-25 17 0
duv光刻技术及常见工艺问题
duv光刻技术及常见工艺问题DUV光刻技术是一种常用于微电子制造中的光刻技术，其中DUV代表深紫外光（Deep Ultraviolet）。它使用波长为193纳米的光源进行曝光，相比传统的紫外光刻技术，DUV光刻技术具有更高的分辨率和更小的特征尺寸。下面是一些与DUV光刻技术和常见工艺相关的问题的解答：1. DUV光刻技术的工作原理是什么？DUV光刻技术利用波长为193纳米的深紫外光在光刻胶上进行曝...
2023-12-08 22 0
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