专利名称：一种碳纳米管基电磁屏蔽材料、胶带及其制作方法专利类型：发明专利
发明人：吕卫帮，巩文斌，何静宇，陈君，吕强，曲抒旋
申请号：CN201811552439.X
申请日：20181218
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公开号：CN109628006A
黄光熙整容
公开日：
历史朝代顺序
20190416
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种碳纳米管基电磁屏蔽材料、胶带及其制作方法。所述碳纳米管基电磁屏蔽材料包括至少一碳纳米管薄膜。所述碳纳米管基电磁屏蔽胶带包括屏蔽功能层、黏胶层和离型层，所述屏蔽功能层包括至少一碳纳米管薄膜。所述碳纳米管基电磁屏蔽胶带整体是柔性的。所述制作方法包括：以一个以上厚度为0.5～100μm的碳纳米管薄膜制成屏蔽功能层；在离型层上涂覆黏性材料，形成黏胶层；将所述屏蔽功能层与黏胶层贴合，形成碳纳米管基电磁屏蔽胶带。本发明利用碳纳米管薄膜的密度低、柔韧性高、抗氧化性强的特点，解决现在屏蔽薄膜中金属的问题，提高屏蔽胶带的适应性和服役稳定性，同时不需要额外保护层，简化屏蔽胶带结构，应用前景广泛。
高以翔申请人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，北京微量化学研究所
地址：215123 江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖高教区若水路398号
国籍：CN
代理机构：南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：王锋
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