采用响应曲面法对Capto adhere填料进行工艺优化
作者：吴光昊 何慧丹 徐翀颿 顾鑫 刘彦君
来源：《上海医药》2020年第09期
祝高考学子的祝福语        摘 要 为对复合阴离子Capto adhere 填料进行纯化工艺优化，在前期单因素试验基础上，CHO细胞表达的IgG1型单克隆抗体细胞培养上清液经亲和层析纯化后，采用中心复合表面设计（CCF）法优化Capto adhere 填料纯化工艺。以收率、纯度、HCP清除率为响应变量，考察pH、电导率、载量3个关键因素对纯化工艺的影响，拟合模型并验证。优化后最佳工艺条件为：pH 7.0，电导率 16.4 ms/cm，载量300 mg/ml，在此条件下，收率、纯度和HCP清除率分别可达（90.77±0.77）%、 （99.55±0.05）%和（88.93±2.14）%。与预测结果偏差均
        关键词 中心复合设计 Capto adhere 抗体纯化秦始皇陵兵马俑的简介与历史>大s个人资料
        中图分类号：TQ464.7 文献标志码：A 文章编号：1006-1533（2020）09-0067-05
        Optimization of Capto adhere purification conditions using response surface design
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        WU Guanghao1*， HE Huidan1， XU Chongfan1， GU Xin1， LIU Yanjun2
        （1. Shanghai Jiaolian Drug Research and Development Co.， Ltd.， Shanghai 201210， China； 2. Central Research Institute， Shanghai Pharmaceuticals Holding Co.， Ltd.， Shanghai 201210， China）
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